Мишени и катоды

(специализация НИЛ 45)

Мишени и катоды различного назначения из сверхчистых материалов, полученные спеканием в вакууме с последующим взрывным прессованием

Резистивные мишени

Совместно с Российским предприятием ООО «Лаб-3″ (г. Зеленоград) разработана технология изготовления резистивных мишеней на базе силицидов. Максимальные размеры мишеней: пластины — до 450 мм; диск — до 180 мм. Мишени успешно прошли испытания на предприятиях электронной промышленности.

Номенклатура резистивных мишеней для магнетронного распыления:

РС 3710, РС 3001, РС 2005,
РС 5406Н, РС 5406К, РС 2310К,
РС 3000К РС 6012, РС 2802М,
РС 2402, РС 4206, РС 4400,
РС 4800, РС 1004
и других составов.

Технические характеристики

Наименование Состав, % вес Применение
Si Co Ni Cr Fe
РС-5406Н 41 - 6 53 - -
РС-5406К 41 6 - 53 - -
РС-5402 44 - - 54 2 -
РС-4800 52 - - 48 - Для получения резистивных промежуточных слоев, обладающих высокой износостойкостью, коррозионной стойкостью и способностью к адгезии.
РС-4400 56 - - 44 - Для получения резистивных слоев, обладающих высокой износостойкостью, коррозионной стойкостью и способностью к адгезии и стабильной работе в течение длительного времени при температуре до 4000С.
РС-3710 53 - 10 37 - Для получения резистивных слоев тонкопленочных изделий электронной техники общего и частного назначения.
РС-1004 85 - 10 - 5 Для получения высокоомных резистивных слоев тонкопленочных микросхем частного назначения.

В 2007 году была усовершенствована технология производства резистивных мишеней для магнетронного распыления. С 2007 по 2010 годы на установке «Оратория-29П» были произведены сравнительные испытания четырех мишеней для магнетронного распыления сделанных по старой и по новой технологии. В ходе испытаний определили, что усовершенствованная технологияпроизводства позволила увеличить время работы мишени до появления первой трещины и время работы мишени до состояния невозможности её дальнейшего использования более чем в 3 раза.